專利申請文件中權(quán)利要求應(yīng)如何布局
發(fā)布時(shí)間：2013-12-16
我國專利法第五十九條第一款規(guī)定：“發(fā)明或者實(shí)用新型專利權(quán)的保護(hù)范圍以其權(quán)利要求的內(nèi)容為準(zhǔn)，說明書及附圖可以用于解釋權(quán)利要求的內(nèi)容?！笨梢姡瑱?quán)利要求書是發(fā)明或者實(shí)用新型專利申請文件的核心部分，也是確定專利保護(hù)范圍的重要法律文件。本文中，筆者將圍繞“如何在權(quán)利要求書中對記載的各項(xiàng)權(quán)利要求進(jìn)行合理布局”進(jìn)行介紹。
確定主題名稱
一般情況下，在發(fā)明人提供的技術(shù)主題的基礎(chǔ)上，可以適當(dāng)考慮延伸技術(shù)主題的保護(hù)范圍，以形成更周密的保護(hù)網(wǎng)。具體而言，可以從并列型主題和拓展型主題的角度進(jìn)行延伸。所謂并列型主題，包括某方法及對應(yīng)某方法的產(chǎn)品、某產(chǎn)品及對應(yīng)某產(chǎn)品的制造/使用方法等情形;拓展型主題包括某方法及包括某方法的方法、某產(chǎn)品及包括某產(chǎn)品的產(chǎn)品等情形。采用拓展型主題進(jìn)行延伸，可以涵蓋產(chǎn)業(yè)鏈上更多節(jié)點(diǎn)，幫助專利權(quán)人更好地運(yùn)用專利資產(chǎn)輔助商業(yè)運(yùn)營。
此外，發(fā)明點(diǎn)一般不宜體現(xiàn)在主題名稱中，否則容易造成劃界不清楚、特征重復(fù)等缺陷;功能或效果也不宜體現(xiàn)在主題名稱中，以避免出現(xiàn)對現(xiàn)有技術(shù)理解和把握不到位的問題。此外，對于主題名稱，還可以使用一些生僻的專業(yè)術(shù)語，以增加競爭對手的檢索難度。
列出所有技術(shù)特征
在理解技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，可以構(gòu)造特征樹，將技術(shù)特征以及技術(shù)特征之間的關(guān)系同時(shí)反映在特征樹中。對于產(chǎn)品類專利申請，其技術(shù)要素更多地體現(xiàn)在空間要素上。因此，在分析技術(shù)特征時(shí)，應(yīng)重視產(chǎn)品的組成部件及各組成部件之間的關(guān)系。對于方法類專利申請，其技術(shù)要素更多地體現(xiàn)在時(shí)間要素上。因此，在分析技術(shù)特征時(shí)，應(yīng)重視方法的組成步驟及各組成步驟之間的關(guān)系。
選擇最接近的現(xiàn)有技術(shù)，確定要解決的技術(shù)問題
確定“要解決的技術(shù)問題”這項(xiàng)工作，有可能影響到將來形成的權(quán)利要求的保護(hù)范圍，因此要給予足夠重視。如何確定“要解決的技術(shù)問題”，筆者歸納了以下幾種情況：
1.分析發(fā)明人提出的技術(shù)問題，針對該技術(shù)問題選擇對比文件(如專利說明書、技術(shù)資料、產(chǎn)品等);2.根據(jù)發(fā)明人提供的技術(shù)方案檢索到最接近的對比文件，重新確定技術(shù)問題;3.檢索到的對比文件已解決發(fā)明人所提出的技術(shù)問題，但對比文件中的技術(shù)方案不同于發(fā)明人的技術(shù)方案，則技術(shù)問題不變;4.發(fā)明人提供技術(shù)方案，在研究技術(shù)方案和現(xiàn)有技術(shù)的基礎(chǔ)上幫助發(fā)明人確定技術(shù)問題。
篩選必要技術(shù)特征，形成獨(dú)立權(quán)利要求
“獨(dú)立權(quán)利要求”要求的保護(hù)范圍應(yīng)適當(dāng)，既要考慮授權(quán)需要，又要維護(hù)專利權(quán)人的最大利益。在實(shí)踐中，將“解決技術(shù)問題必不可少的技術(shù)特征”作為必要技術(shù)特征，從而形成獨(dú)立權(quán)利要求。此外，可以將必要技術(shù)特征中與現(xiàn)有技術(shù)不同的技術(shù)特征作為區(qū)別技術(shù)特征，以區(qū)分前序部分和特征部分。在撰寫完獨(dú)立權(quán)利要求后，可以從技術(shù)問題的角度和技術(shù)效果的角度進(jìn)行自查?？傊?dú)立權(quán)利要求中的技術(shù)問題、技術(shù)方案和技術(shù)效果應(yīng)相互對應(yīng)，盡量刪除其中不必要的用語和限制。
篩選附加技術(shù)特征，形成從屬權(quán)利要求
在確定從屬權(quán)利要求時(shí)，獨(dú)立權(quán)利要求的技術(shù)方案與從屬權(quán)利要求的技術(shù)方案之間的層次不宜相差過大，在獨(dú)立權(quán)利要求和限定具體技術(shù)方案的從屬權(quán)利要求之間，應(yīng)設(shè)定對應(yīng)中間保護(hù)范圍的從屬權(quán)利要求。此外，應(yīng)將從屬權(quán)利要求中限定的技術(shù)特征落實(shí)到具體產(chǎn)品上，尤其是易取證的產(chǎn)品，這樣有利于應(yīng)對后續(xù)可能出現(xiàn)的專利侵權(quán)訴訟。根據(jù)從屬權(quán)利要求中附加技術(shù)特征與獨(dú)立權(quán)利要求中必要技術(shù)特征的關(guān)系，可以將從屬權(quán)利要求分為追加型和細(xì)化型。例如：
1.一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括A和B。
2.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，其特征在于，還包括C。
3.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述A包括D和E。
上述從屬權(quán)利要求2為追加型，即其中的附加技術(shù)特征C是在獨(dú)立權(quán)利要求的必要技術(shù)特征A和B的基礎(chǔ)上增加的技術(shù)特征。從屬權(quán)利要求3為細(xì)化型，即其中的附加技術(shù)特征D和E是對獨(dú)立權(quán)利要求中的必要技術(shù)特征A的進(jìn)一步限定。因此，可以從追加和細(xì)化兩個角度對從屬權(quán)利要求進(jìn)行布局。
此外，在保證技術(shù)方案完整清楚的前提下，應(yīng)盡可能采用單特征限定的方式。仍以上述例子進(jìn)行說明，上述半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)還可以包括G或/和H，即增加以下兩個從屬權(quán)利要求：
4.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，其特征在于，還包括G。
5.如權(quán)利要求1或4所述的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，其特征在于，還包括H。
需要強(qiáng)調(diào)的是，從屬權(quán)利要求應(yīng)盡可能地去引用獨(dú)立權(quán)利要求。
